KE Mikro Sonic 半导体用低频超声波清洗机

 一、产品概览

该产品属于单一周波专用机/多振荡模式超声波清洗机，主打低损伤、高清洗性能，旨在通过多种振荡模式满足不同的清洗需求，包括强力清洗、均一清洗及低损伤清洗。

📋 二、主要技术规格 (UO1200PG系列)

该设备具备以下核心参数：

💡 三、核心功能特点

1. 五种振荡模式：一台发生器即可对应单一周波、扫频（Sweep）、调频（FM）、单一周波+调幅（AM）、扫频+调幅（AM）五种模式。

2. 稳定输出控制：搭载频率自动追踪功能，能应对液温、液深及清洗液种类等负荷变动，始终保持稳定的电力供应。

3. 免调整振荡器：在更换同规格振动子单元时，无需对发生器进行重新调整（注：不保证所有条件下均能正常动作）。

4. 状态监测与通信：具备发生器状态数据常时发送功能，支持并列通信或串行通信，便于用户监测设备运行状态及异常发生情况。

🧼 四、主要应用领域

该设备广泛应用于对清洁度要求较高的工业领域，包括但不限于：

• 
  

• 材料清洗：金属、陶瓷、玻璃。

• 工业零部件：机械零件、汽车零部件的脱脂清洗。

• 精密制造：结晶硅锭清洗、半导体制造装置治具清洗。

• 医科领域：医科器具清洗。

KE Mikro Sonic 半导体用低频超声波清洗机UO1200PG 

KE Mikro Sonic 半导体用低频超声波清洗机UO1200PG