
products
产品分类
更新时间:2026-02-28
浏览次数:14本文介绍了株式会社 INTECS 开发的 UIH-1H 型超高亮度照明装置。该设备利用丁达尔现象,专为精密光学检测设计。其核心定位在于 “结像重视" (成像清晰度),区别于单纯的高亮度照明设备。UIH-1H 的主要功能是专攻半导体抛光晶圆(Polish Wafer)的 Haze(雾度)检测,通过独特的光学系统在晶圆表面投影出3条检查标记,使操作人员能直观判断表面微米级的雾状缺陷。同时,该设备也适用于广泛的 “半导体晶圆与掩膜玻璃专用" 场景,可用于检查表面异物、伤痕及内部气泡。文章详细列出了其 15V 150W 的光源规格,并强调了其特的有的3分钟强制冷却关机流程,以确保设备在高洁净度工业环境下的稳定性和 longevity。

与同系列的 UIH-1C 型号不同,UIH-1H 在设计上侧重于成像清晰度(结像重視),而非单纯的高亮度。
核心用途:该设备专为抛光晶圆(Polish Wafer)的 Haze(雾度/浊度)检测而设计。
光学特性:UIH-1H 能够在照射面上投影出 3 条特定的检查标记。这些标记有助于操作人员清晰地观察晶圆表面的雾状缺陷(Haze)。
适用对象:主要针对半导体晶圆,同时也适用于掩膜玻璃(Mask Glass)、光学部件及镜头等精密部件的表面检查。
结束使用流程:检测结束后,先将灯泡开关拨回 STANDING BY 状态。必须冷却 3 分钟以上,待内部温度下降后,再切断电源。这是为了保护设备并确保下一次使用的稳定性。